연구시설
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본관 (연면적 : 4,634㎡)
주요시설
지하1층, 지상2층, 철근콘크리트 연와조
1, 2층 청정실 (연면적 2,110㎡)
측정분석실
벤처 창업공간
용역동
연구실
휴게공간
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설계연구관 (연면적 : 5,655㎡)
주요시설
지상5층, 철근콘크리트 연와조
디스플레이센터
차세대회로설계센터
내장형시스템연구센터
뉴럴프로세싱연구센터
설계측정실, 교육실
연구실
휴게공간
특화분야 | CMOS, MEMS, BIO, Display, 화합물 |
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인원 | 총 29명 / 장비전담인력 18명 (책임급1명, 선임급7명, 원급 10명) |
3N | 2019년 12월 11일 국가연구시설(N-facility) 지정 |